VTC-3RF 三靶射频磁控溅射镀膜仪
应用范围:VTC-3RF三靶射频磁控溅射镀膜仪,配有磁控等离子溅射头和射频(RF)等离子电源,此款设备主要用于制作非导电薄膜,特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索,它是一款廉价并且高效的实验帮手。
产品型号 :VTC-3RF
上架时间 :2019-08-16
安装尺寸:700mm L x 770 mm W x 1900 mm H
重量:80Kg(不包括泵)
VTC-3RF三靶射频磁控溅射镀膜仪,配有磁控等离子溅射头和射频(RF)等离子电源,此款设备主要用于制作非导电薄膜,特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索,它是一款廉价并且高效的实验帮手。
性能指标和基本配置 | ||||||
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主要特点 |
● 标配的石英腔体(也可选配金属腔体)方便观察(图1) |
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基本参数 |
● 输入电源:220V AC50/60Hz |
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机体结构 |
● 设备配备三个直流射频通用靶头,1英寸2英寸尺寸可选。 |
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产品尺寸 | ||||||
净重 | 80 kg(不包括泵) | |||||
认证 |
CE认证 |
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保修期 |
一年保修,终身技术支持。 特别提示: 1.耗材部分如加热元件,石英管,样品坩埚等不包含在内。 2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内 点击查看售后服务承诺书。 |
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